Ионная имплантация в полупроводники и другие материалы
Рiк видання: 1980 Мiсце видання: М. Видавництво: Мир
Авторський знак: И75
Мова: Російська Обсяг: 331 с.
Шифр: 538.22 УДК: 538.22
| Додаткові відомості щодо назви: | Сборник статей |
| Відомості про відповідальність: | Под ред. Вавилова В.С. |
| Назва серії: | Новости физики твердого тела |
| Номер випуску серії: | Вып.10 |
Теми документа
|